Используя метод подобия соединений и реакций авторы оценили отсутствующие в литературе термодинамические параметры твердофазных реакций образования из соответствующих простых оксидов, что позволило им рассчитать стандартные энергии Гиббса реакций испарения, характеризующие устойчивость сложных оксидов к термическому испарению. Установлено, что стандартные потенциалы Гиббса реакций испарения имеют большие положительные значения, т.е. устойчивость к термическому испарению велика. При расчете стандартных энергий Гиббса реакций испарения отмечено, что их большие положительные значения обусловлены, главным образом, большой положительной величиной стандартной энергии Гиббса реакции возгонки, что определяет и решающее влияние щелочноземельного, а не редкоземельного оксида, на стойкость соединений к термическому испарению. Установлено, что при эксплуатации в источниках света (ИС) высокого и низкого давления стабильность эмиссионных покрытий на сроке службы ИС определяется не только рабочей температурой катода, но и давлением парогазовой смеси, наполняющей лампу: чем оно ниже, тем меньше стойкость к термическому испарению, из чего следует, что указанные эмиттеры предпочтительнее использовать в ИС высокого давления.

Using similarity method of compounds and reactions, the authors estimated the thermodynamic parameters, not presented in literature, of solid state reaction of forming from corresponding simple oxides. The above-said made it possible for them to calculate standard Gibbs energies of vaporization reactions from which characterized the strength of complex oxides to thermal vaporization. It is stated that standard Gibbs potentials of vaporization reactions have big positive values, that is strength to thermal vaporization is big. During calculation of standard Gibbs energies of vaporization reactions it is noticed that their big positive values are conditioned mainly by big positive value of standard Gibbs energy of sublimation reaction and that determines the decisive influence of alkali-earth oxide and not of rare-earth oxide on strength of compounds to thermal vaporization. It is stated that during exploitation of in light sources (LS) of high and low pres-sure, emission covering stability during life time of LS is determined not only by operation cathode temperature but by pressure of vapor-gas mixture, filling a lamp: that is the lower the pressure the less strength to thermal vaporization. Therefore applying of the above-indicated emitters are preferred in LS of high pressure.